সম্প্রতি, সাংহাই ইনস্টিটিউট অফ অপটিক্স অ্যান্ড প্রিসিশন মেশিনারি (SIPM), চাইনিজ একাডেমি অফ সায়েন্সেস (CAS) এর স্ট্রং-ফিল্ড লেজার ফিজিক্সের স্টেট কী ল্যাবরেটরি, হাংঝো ইনস্টিটিউট অফ অ্যাডভান্সড স্টাডিজ অফ চাইনিজ একাডেমি অফ সায়েন্সেস (HIAS) এবং Huazhong-এর সহযোগিতায় ইউনিভার্সিটি অফ সায়েন্স অ্যান্ড টেকনোলজি (HUST), ট্র্যাকশন হিসাবে লেজারগুলির ক্ষুদ্রকরণের সাথে চ্যালকোজেনাইড লাভ মেকানিজমের অধ্যয়নের উপর ভিত্তি করে সাবওয়েভেলংথ স্কেলে উচ্চ-কার্যক্ষমতা সম্পন্ন চ্যালকোজেনাইড একক-মোড লেজার উপলব্ধি করেছে। স্বচ্ছ সিলিকা-ভিত্তিক ন্যানোক্যাভিটি থেকে জল-প্রতিরোধী সাবওয়েভেলংথ পেরোভস্কাইট লেসিং শিরোনামে সম্পর্কিত গবেষণার ফলাফলগুলি অ্যাডভান্সড ম্যাটেরিয়ালস (উন্নত উপকরণ) এ প্রকাশিত হয়েছিল।
মেটাল হ্যালাইড চ্যালকোজেনাইডগুলি অন-চিপ ফোটোনিক ইনফরমেশন প্রসেসিং সিস্টেম এবং ভবিষ্যতের ইন্টিগ্রেটেড অপটোইলেক্ট্রনিক্সে সম্ভাব্য অ্যাপ্লিকেশন সহ উচ্চ-কর্মক্ষমতা মাইক্রো- এবং ন্যানো-লেজার ডিভাইসগুলির জন্য একটি আদর্শ লাভ মিডিয়া হিসাবে বিবেচিত হয়। বর্তমানে, চ্যালকোজেনাইড লেজার তৈরির জন্য মূলধারার প্রযুক্তি প্রধানত সমাধান পদ্ধতি ব্যবহার করে। এটির সাথে তুলনা করে, তাপীয় বাষ্পীভবন প্রযুক্তি নিয়ন্ত্রিত নির্ভুলতার সাথে বৃহৎ-এলাকার উত্পাদন অর্জন করা সহজ এবং ইতিমধ্যে বাণিজ্যিক আলো-নির্গত ডায়োডে প্রয়োগ করা হয়েছে। যাইহোক, তাপীয়ভাবে বাষ্পীভূত চ্যালকোজেনাইড ফিল্মগুলি তাদের উচ্চ ত্রুটির কারণে লেজারের জন্য কম অধ্যয়ন করা হয়েছে, এবং তাই কর্মক্ষমতা তাদের সমাধান-চিকিত্সা করা অংশগুলির থেকে পিছিয়ে রয়েছে। এছাড়াও, চ্যালকোজেনাইড লেজারগুলির মুখোমুখি আরেকটি চ্যালেঞ্জ হল তারা আর্দ্রতার প্রতি আরও সংবেদনশীল, চ্যালকোজেনাইড-ভিত্তিক ডিভাইসগুলির বাণিজ্যিক প্রয়োগকে সীমিত করে, বিশেষত যেহেতু জলে চ্যালকোজেনাইড লেজারগুলির উপর সামান্য পরীক্ষামূলক কাজ রিপোর্ট করা হয়েছে।
একটি, তিন-উৎস সহ-বাষ্পীভবন পরিকল্পিত; b, চ্যালকোজেনাইড ফ্লুরোসেন্স স্পেকট্রা; c, ফ্লুরোসেন্স জীবনকাল; df, লুমিনেসেন্স তীব্রতার তাপমাত্রা-নির্ভর ফ্লুরোসেন্স স্পেকট্রা, অর্ধ-উচ্চতা প্রস্থ, এবং পিক পজিশন প্লট
সাংহাই ইনস্টিটিউট অফ অপটিক্যাল মেশিনারির অগ্রগতি উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি এবং হাই-পাওয়ার আল্ট্রাফাস্ট লেজারের গবেষণায় উচ্চ গ্র্যাভিমেট্রিক ফ্রিকোয়েন্সিতে
af, ডাইনামিক মেকানিজম লাভ; gi, যৌগিক গতিবিদ্যা প্রক্রিয়া
একটি, উপ-তরঙ্গদৈর্ঘ্য উল্লম্ব গহ্বর লেজার আউটপুট বর্ণালী; b, লেজার ইনপুট-আউটপুট ডায়াগ্রাম; গ, লেজার ইন্টারফেরোগ্রাম; d, লেজার আউটপুট স্পট ডায়াগ্রাম; e, পানির নিচের লেজার পরিকল্পিত; f, পানির নিচে লেজার আউটপুট স্পেকট্রা; g, পানির নিচে লেজারের স্থিতিশীল আউটপুট 20 দিনের
গবেষণায় ক্রিস্টালাইজেশন ধীর করার জন্য, ত্রুটির প্যাসিভেশন এবং ডোমেন-সীমিত মড্যুলেশন অর্জনের জন্য সংযোজন প্রবর্তন করে উচ্চ-মানের চ্যালকোজেনাইড পাতলা-ফিল্ম লাভ মিডিয়া বিকাশের জন্য একটি লিগ্যান্ড-সহায়ক তিন-উৎস সহ-বাষ্পীভবন কৌশল ব্যবহার করা হয়েছে। অধ্যয়নটি নিশ্চিত করে যে অপ্টিমাইজ করা চ্যালকোজেনাইড পাতলা ফিল্মগুলিতে দুর্দান্ত ক্যারিয়ারের যৌগিক বৈশিষ্ট্য রয়েছে এবং অতি দ্রুত ক্ষণস্থায়ী শোষণ বর্ণালী পরীক্ষার মাধ্যমে অপটিক্যাল লাভের কার্যকারিতা উন্নত করা হয়েছে। উপরে উল্লিখিত উচ্চ লাভ দ্বারা অনুপ্রাণিত হয়ে, একটি স্বচ্ছ প্রতিসম SiO2 শীটের উপর ভিত্তি করে একটি সাধারণ প্রতিসম কাঠামো একটি নিম্ন-প্রান্তিক (13 μJ/cm2) একক-মোড উপ-তরঙ্গদৈর্ঘ্য-স্কেল (120 nm) তাপীয়ভাবে বাষ্পীভূত চ্যালকোজেনাইড লেজার উপলব্ধি করার জন্য নির্মিত হয়েছিল। 20 দিনেরও বেশি সময় ধরে পানির নিচে স্থিরভাবে এবং একক-মোডে পরিচালিত হতে পারে এবং এর দীর্ঘ-পরিসরের সমন্বয় দৈর্ঘ্য (115.6 μm) এবং উচ্চ রৈখিক মেরুকরণ (82%) আরও এই ক্ষুদ্র লেজারের চমৎকার কার্যকারিতা নিশ্চিত করে। দীর্ঘ পরিসরের সমন্বয় দৈর্ঘ্য (115.6 μm) এবং উচ্চ রৈখিক মেরুকরণ (82%) এই ক্ষুদ্র লেজারের শ্রেষ্ঠত্বকে আরও নিশ্চিত করে। এই কমপ্যাক্ট এবং সহজ স্বচ্ছ উল্লম্ব গহ্বরের কাঠামো এবং তাপীয় বাষ্পীভবন প্রক্রিয়ার সমন্বয় ভবিষ্যতের সিলিকন ফোটোনিক্স-সামঞ্জস্যপূর্ণ চ্যালকোজেনাইড লেজারগুলির জন্য একটি সহজ, শক্তিশালী এবং নির্ভরযোগ্য ভর উৎপাদন কৌশল প্রদান করবে এবং নতুন ধরনের চ্যালকোজেনাইড অপটোইলেক্ট্রনিক ডিভাইসের উন্নয়নে সহায়তা করবে বলে আশা করা হচ্ছে। উন্নত কর্মক্ষমতা.
গবেষণাটি চীনের ন্যাশনাল কী রিসার্চ অ্যান্ড ডেভেলপমেন্ট প্রোগ্রাম, চীনের ন্যাশনাল ন্যাচারাল সায়েন্স ফাউন্ডেশন এবং সাংহাই বেসিক রিসার্চ পাইলট প্রোগ্রাম দ্বারা সমর্থিত।
